Pirana çözeltisi
Pirana çözeltisi, sülfürik asit ve hidrojen peroksitten oluşan çözeltidir, organik maddeleri yüzeylerden temizlemek için kullanılır.
Çoğu organik maddeyi bozup ayırdığından ve hidroksitlediğinden kumaş ve deriyi bozup ve oksitler deriyi oluşturan organik bileşikleri karbon dioksit, hidrojen gibi gazlara ayırır bundan dolayı çok tehlikelidir ana kullanım yeri elektronikte silisyum waferlerindeki istenmeyen organik kontaminantları (toz, bakteri, insan parmak yağları) temizlemekte kullanılır.[1] Pirana çözeltisi nitril eldiveni bile saniyeler içinde bozduğundan sıçrama durumuna karşı sodyum bikarbonat hazır bekletilmelidir böylelikle nötralize edilinebilir. Pirana çözeltisi kullanılacağı zaman yapılmalıdır zira hidrojen peroksit suya dönüşür, saklanmamalı ve cam kullanılmalıdır, metal ve plastikler kesinlikle kullanılmamalıdır, çok yüksek miktarda su ile seyreltilip lavabodan dökülebilir.
Pirana çözeltisi karbonu oksitleyebilen nadir maddelerden birisidir.
Yapılışı[değiştir | kaynağı değiştir]
4'te 1 hidrojen peroksit geri kalanı sülfürik asit olacak şekilde yapılır, fazla hidrojen peroksit konur ise patlar.
Kaynakça[değiştir | kaynağı değiştir]
- ^ admin (28 Aralık 2016). "How Piranha Etch is Used in Silicon Wafer Cleaning". Modutek (İngilizce). 2 Ocak 2022 tarihinde kaynağından arşivlendi. Erişim tarihi: 2 Ocak 2022.