İnce tabakalı diod

Vikipedi, özgür ansiklopedi

İnce tabakalı diyot (İngilizce: thin-film diode, kısaca TFD) genellikle ince film teknolojisi kullanılarak üretilen herhangi bir diodeni ifade eder.

Düz panel ekran endüstrisinde TFD daha çok metal-izolatör-metal (MIM) TFD'ler veya doğrusal olmayan dirençler olarak da bilinen ince film iki yönlü diyotları ifade eder.[1] Çift yönlü MIM TFD'leri düşük uygulanan gerilimlerde çok düşük elektrik akımı akışına sahiptir, ancak daha sonra pozitif veya negatif polarite olan bir eşik voltajının üzerinde elektrik üretmeye başlar. Bu davranış nedeniyle, bu iki terminal cihazı bir anahtar olarak kullanılabilir. Bir MIM TFD'nin devreye girdiği ve elektriği iletmeye başladığı eşik voltajı, yalıtım tabakasının kalınlığı gibi fiziksel boyutlarına bağlıdır.[2]

Yapısı[değiştir | kaynağı değiştir]

Düz panel ekran üreticileri, aktif matriks sıvı kristal ekranlar (AMLCD) gibi aktif matris teknolojisinde anahtar olarak MIM TFD'leri için kullanım bulmuştur. Tarihsel olarak AMLCD'lerde, pikseller için tercih edilen anahtarlama cihazı, ince tabakalı transistör (TFT) olmuştur, ancak MIM TFD tabanlı ekranlar, daha basit oldukları için ticari başarıya sahip olmuştur.[3] Sadece ince film transistörlerinin üretilmesi için gerekli olan tipik 5 veya daha fazla olmak yerine iki ila üç adet fotolitografi adımı gerektirir.

Kısacası, aktif bir matris ekranın arka düzleminde yer alan milyonlarca anahtar, TFT'ler veya TFD'ler, gri skalasını kontrol etmek için her biri kendi piksellerine uygulanan voltajı doğru ve tekrarlanabilir şekilde kontrol edebilmelidir.[4] İnce film diyotları TFT'lere göre daha ucuz olsa da, tek bir TFD kullanarak geniş bir renk gamı ve gri skala elde etmek zordur. Ancak bu sınırlama, piksel devresi başına iki MIM TFD'si içeren bir çift seçimli diyot devresi kullanılarak aşılabilir.[5]

Güney Koreli elektronik üreticileri LG ve Samsung, MIM TFD'leri daha önce cep telefonu ekranlarına dahil etmişlerdir. Amerikan şirketi Amorphyx Inc., 2012 yılında amorf metal malzemeleri içeren MIM-TFD teknolojisini ticarileştirmek için kuruldu.

Kaynakça[değiştir | kaynağı değiştir]

  1. ^ Hirai, Takanori; Morita, Hiroshi; Tasaka, Masayasu (1 Kas 1999). "Current–Voltage Characteristics of Thin-Film Diode Elements and Application of Poole-Frenkel Equation". Japanese Journal of Applied Physics. 38 (11R): 6549. doi:10.1143/JJAP.38.6549. 13 Şubat 2024 tarihinde kaynağından arşivlendi. Erişim tarihi: 13 Şubat 2024 – iopscience.iop.org vasıtasıyla. 
  2. ^ "Arşivlenmiş kopya". 28 Eylül 2017 tarihinde kaynağından arşivlendi. Erişim tarihi: 31 Mayıs 2018. 
  3. ^ https://spiral.imperial.ac.uk/handle/10044/1/25297 [ölü/kırık bağlantı]
  4. ^ https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-spie/2892/0000/MIM-thin-film-diode-with-excellent-switching-characteristics-for-LCD/10.1117/12.253367.short?SSO=1 [ölü/kırık bağlantı]
  5. ^ "Arşivlenmiş kopya" (PDF). 29 Mart 2018 tarihinde kaynağından arşivlendi (PDF). Erişim tarihi: 31 Mayıs 2018. 

Dış bağlantılar[değiştir | kaynağı değiştir]

Ayrıca bakınız[değiştir | kaynağı değiştir]