İyon kaplama: Revizyonlar arasındaki fark

Etkileşimli olarak geçmişe göz at

[kontrol edilmiş revizyon]

← Önceki sürümle aradaki fark Sonraki sürümle aradaki fark →

İçerik silindi İçerik eklendi

GörselVikimetin

Satır içi

Sayfanın 05.01, 3 Haziran 2021 tarihindeki hâli

İyon kaplama, vakum kaplama işlemlerinin bir versiyonudur. İyon kaplama, substrat yüzeyinin periyodik bombardımanı ile, atomik boyuttaki partiküllerin yüzeyde biriktirilmesi ile gerçekleştirilir. Vakum iyon kaplama, reaktif iyon kaplama, kimyasal iyon kaplama gibi çeşitli teknikleri bulunur.^[1]

Kullanım biçimi

İyon kaplama, saçtırma işlemindeki gibi, soy gaz deşarj sistemleri ile kullanılabilir. Bu yöntemde substrat yüzeyinin şekillenmesi için substrat öncelikle inert gaz bombardımanına maruz bırakılır.^[2] Film katmanlama işlemi, iyon bombardımanına ara verilmeksizin devam eder. Filmin oluşturulması için, katmanlama oranının, saçtırma oranından fazla olması şartı vardır. İyon kaplama, genellikle yüzey ile film arasında yüksek bir adezyon kuvveti istenilen durumlarda uygulanır.

Faydaları

İyon kaplama işleminin, adezyon bakımından avantajları şu şekilde açıklanabilir.

Film oluşturulana kadar substrat yüzeyinin oluşturulması iyi bir adezyon sağlar
Yüksek hata konsantrasyonu verilmesi ile, yüzey ve arayüzey yapısından sonra film ve substrat malzemesinin fiziksel olarak bağlanması
Sadece yüzeyde oluşan yüksek sıcaklık ile substrat yüzeyine doğru yüksek enerji akışını sağlayabildiği için, kütlenin ısıtılmasına gerek kalmadan kimyasal reaksiyonların ve difüzyonun oluşabilmesi bir avantajdır.

Büyüyen filmin iyon bombardımanı, biriktirilen filmin morfolojisinde, iç gerilimde ya da diğer fiziksel ve elektriksel özelliklerde değişikliklere sebep olabilir.

İyon Bombardımanı Teknikleri

İyon Tabancası (Vakumlu ortamda)
Gaz Deşarjı

Kaynakça

^ Lampert, Dr. Carl (3 January 2013). "Vacuum Deposition and Coating Options". pfonline.com (İngilizce). Gardner Business Media. 16 July 2017 tarihinde kaynağından arşivlendi. Erişim tarihi: 10 October 2019. Ion plating uses energetic ion bombardment during deposition to densify the deposit and control properties of the coating such as stress and microstructure.
^ Bach, Hans; Krause, Dieter, (Ed.) (10 July 2003). Thin Films on Glass (Schott Series on Glass and Glass Ceramics). Schott Series on Glass and Glass Ceramics (İngilizce). Springer Science+Business Media. doi:10.1007/978-3-662-03475-0. ISBN 978-3540585978. LCCN 97029134. OCLC 751529805. OL 682447M. Erişim tarihi: 10 October 2019.

Ayrıca bakınız

Malzeme ile ilgili bu madde taslak seviyesindedir. Madde içeriğini genişleterek Vikipedi'ye katkı sağlayabilirsiniz.

[Lampert-1] Lampert, Dr. Carl (3 January 2013). "Vacuum Deposition and Coating Options". pfonline.com (İngilizce). Gardner Business Media. 16 July 2017 tarihinde kaynağından arşivlendi. Erişim tarihi: 10 October 2019. Ion plating uses energetic ion bombardment during deposition to densify the deposit and control properties of the coating such as stress and microstructure.

[2] Bach, Hans; Krause, Dieter, (Ed.) (10 July 2003). Thin Films on Glass (Schott Series on Glass and Glass Ceramics). Schott Series on Glass and Glass Ceramics (İngilizce). Springer Science+Business Media. doi:10.1007/978-3-662-03475-0. ISBN 978-3540585978. LCCN 97029134. OCLC 751529805. OL 682447M. Erişim tarihi: 10 October 2019.

[1]

[2]

@@ 1. satır: / 1. satır: @@
 {{kaynaksız}}
 [[Dosya:ION PLATING RIG - NARA - 17418910.jpg|küçükresim|İyon kaplama makinesi]]
-'''İyon kaplama''', [[vakum kaplama]] işlemlerinin bir versiyonudur. İyon kaplama, [[substrat]] yüzeyinin periyodik bombardımanı ile, atomik boyuttaki partiküllerin yüzeyde biriktirilmesi ile gerçekleştirilir. Vakum iyon kaplama, reaktif iyon kaplama, kimyasal iyon kaplama gibi çeşitli teknikleri bulunur.
+'''İyon kaplama''', [[vakum kaplama]] işlemlerinin bir versiyonudur. İyon kaplama, [[substrat]] yüzeyinin periyodik bombardımanı ile, atomik boyuttaki partiküllerin yüzeyde biriktirilmesi ile gerçekleştirilir. Vakum iyon kaplama, reaktif iyon kaplama, kimyasal iyon kaplama gibi çeşitli teknikleri bulunur.<ref name=Lampert>{{cite web |url= https://www.pfonline.com/articles/vacuum-deposition-and-coating-options |title= Vacuum Deposition and Coating Options |last= Lampert |first= Dr. Carl |date= 2013-01-03 |website= pfonline.com |publisher= Gardner Business Media |language= en |archive-url= https://web.archive.org/web/20170716103750/https://www.pfonline.com/articles/vacuum-deposition-and-coating-options |archive-date= 2017-07-16 |url-status= live |access-date= 2019-10-10 |quote= Ion plating uses energetic ion bombardment during deposition to densify the deposit and control properties of the coating such as stress and microstructure. |ref= Lampert2013 |df= dmy-all}}</ref>
 == Kullanım biçimi ==
-İyon kaplama, [[Saçtırma biriktirme|saçtırma]] işlemindeki gibi, soy gaz deşarj sistemleri ile kullanılabilir. Bu yöntemde substrat yüzeyinin şekillenmesi için substrat öncelikle ''inert'' gaz bombardımanına maruz bırakılır. Film katmanlama işlemi, iyon bombardımanına ara verilmeksizin devam eder. Filmin oluşturulması için, katmanlama oranının, saçtırma oranından fazla olması şartı vardır. İyon kaplama, genellikle yüzey ile film arasında yüksek bir [[adezyon kuvveti]] istenilen durumlarda uygulanır.
+İyon kaplama, [[Saçtırma biriktirme|saçtırma]] işlemindeki gibi, soy gaz deşarj sistemleri ile kullanılabilir. Bu yöntemde substrat yüzeyinin şekillenmesi için substrat öncelikle ''inert'' gaz bombardımanına maruz bırakılır.<ref>{{cite book |date= 2003-07-10 |editor1-last= Bach |editor1-first= Hans |editor2-last= Krause |editor2-first= Dieter |title= Thin Films on Glass (Schott Series on Glass and Glass Ceramics) |language= en |url= https://books.google.com/books?id=8oshkj5T26cC&pg=PP1 |url-status= live |series= Schott Series on Glass and Glass Ceramics |publisher= [[Springer Science+Business Media]] |doi= 10.1007/978-3-662-03475-0 |publication-date= 2003-07-10 |isbn= 978-3540585978 |lccn= 97029134 |oclc= 751529805 |ol= OL682447M |access-date= 2019-10-10 |ref= BachKrause1997 |df= dmy-all}}</ref> Film katmanlama işlemi, iyon bombardımanına ara verilmeksizin devam eder. Filmin oluşturulması için, katmanlama oranının, saçtırma oranından fazla olması şartı vardır. İyon kaplama, genellikle yüzey ile film arasında yüksek bir [[adezyon kuvveti]] istenilen durumlarda uygulanır.
 == Faydaları ==
 İyon kaplama işleminin, adezyon bakımından avantajları şu şekilde açıklanabilir.
@@ 14. satır: / 14. satır: @@
 *[[İyon Tabancası]] (Vakumlu ortamda)
 *[[Gaz Deşarjı]]
+== Kaynakça ==
+{{kaynakça}}
 == Ayrıca bakınız ==