İyon kaplama

Vikipedi, özgür ansiklopedi
Atla: kullan, ara

İyon kaplama, vakum kaplama işlemlerinin bir versiyonudur. İyon kaplama, substrat yüzeyinin periyodik bombardımanı ile, atomik boyuttaki partiküllerin yüzeyde biriktirilmesi ile gerçekleştirilir. Vakum iyon kaplama, reaktif iyon kaplama, kimyasal iyon kaplama gibi çeşitli teknikleri bulunur.

Kullanım biçimi[değiştir | kaynağı değiştir]

İyon kaplama, saçtırma işlemindeki gibi, soy gaz deşarj sistemleri ile kullanılabilir. Bu yöntemde substrat yüzeyinin şekillenmesi için substrat öncelikle inert gaz bombardımanına maruz bırakılır. Film katmanlama işlemi, iyon bombardımanına ara verilmeksizin devam eder. Filmin oluşturulması için, katmanlama oranının, saçtırma oranından fazla olması şartı vardır. İyon kaplama, genellikle yüzey ile film arasında yüksek bir adezyon kuvveti istenilen durumlarda uygulanır.

Faydaları[değiştir | kaynağı değiştir]

İyon kaplama işleminin, adezyon bakımından avantajları şu şekilde açıklanabilir.

  • Film oluşturulana kadar substrat yüzeyinin oluşturulması iyi bir adezyon sağlar
  • Yüksek hata konsantrasyonu verilmesi ile, yüzey ve arayüzey yapısından sonra film ve substrat malzemesinin fiziksel olarak bağlanması
  • Sadece yüzeyde oluşan yüksek sıcaklık ile substrat yüzeyine doğru yüksek enerji akışını sağlayabildiği için, kütlenin ısıtılmasına gerek kalmadan kimyasal reaksiyonların ve difüzyonun oluşabilmesi bir avantajdır.

Büyüyen filmin iyon bombardımanı, biriktirilen filmin morfolojisinde, iç gerilimde ya da diğer fiziksel ve elektriksel özelliklerde değişikliklere sebep olabilir.

İyon Bombardımanı Teknikleri[değiştir | kaynağı değiştir]

Ayrıca bakınız[değiştir | kaynağı değiştir]