English: Schematics of an mass separating implantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of Uaccell and Udecell. Image created using Tgif.
This image (or all images in this category) uses inside labels or attached captions in a specific script or language and should be converted to a language neutral form. This would allow its use in all Wikimedia projects and, more importantly, all Wikimedia languages.
Bu belgenin GNU Özgür Belgeleme Lisansı, Sürüm 1.2 veya Özgür Yazılım Vakfı tarafından yayımlanan sonraki herhangi bir sürüm şartları altında bu belgenin kopyalanması, dağıtılması ve/veya değiştirilmesi için izin verilmiştir;
Değişmeyen Bölümler, Ön Kapak Metinleri ve Arka Kapak Metinleri yoktur. Lisansın bir kopyası GNU Özgür Belgeleme Lisansı sayfasında yer almaktadır.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue
atıf – Esere yazar veya lisans sahibi tarafından belirtilen (ancak sizi ya da eseri kullanımınızı desteklediklerini ileri sürmeyecek bir) şekilde atıfta bulunmalısınız.
benzer paylaşım – Maddeyi yeniden karıştırır, dönüştürür veya inşa ederseniz, katkılarınızı orijinal olarak aynı veya uyumlu lisans altında dağıtmanız gerekir.
Bu lisanslama etiketi, dosyaya GFDL lisanslama güncelleştirmenin bir parçası olarak eklenmiştir.http://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/CC BY-SA 3.0Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0truetrue
Altyazılar
Bu dosyanın temsil ettiği şeyin tek satırlık açıklamasını ekleyin.
Schematics of an mass separating en:ion implantationimplantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of U<sub>accell</sub> and U<sub>decell</sub>. Image created by user:Dschwen u